上海岩征生产的超临界CO2发泡材料反应装置，使用温度300℃内，使用压力：10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳（CO2）还原、二氧化碳（CO2）还原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）还原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域

上海岩征生产的CO2光催化反应装置光化学高压反应釜，使用温度300℃内，使用压力：10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳（CO2）还原、二氧化碳（CO2）还原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）还原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域