• 超临界CO2发泡材料反应装置 查看详细介绍

    上海岩征生产的超临界CO2发泡材料反应装置,使用温度300℃内,使用压力:10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳(CO2)还原、二氧化碳(CO2)还原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)还原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域

    更新时间:2023-11-06

    厂商性质:生产厂家

    浏览次数:1531

  • CO2光催化反应装置 查看详细介绍

    上海岩征生产的CO2光催化反应装置光化学高压反应釜,使用温度300℃内,使用压力:10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳(CO2)还原、二氧化碳(CO2)还原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)还原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域

    更新时间:2023-11-06

    厂商性质:生产厂家

    浏览次数:2152

共 2 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
技术支持:化工仪器网   sitemap.xml   管理登陆
©2024 版权所有:上海岩征实验仪器有限公司   备案号:沪ICP备11034097号-16